【我国有能力生产光刻机吗？能否达到荷兰ASML的7nm工艺呢？】

我们确实备受光刻机的困扰，最令我们感觉无奈的事情是，目前最强的ASML的7nm EUV工艺制程确实令我们感觉很无奈，因为我们并不能够使用该技术。

所以，我们目前最强的中芯国际，能够量产的只有14nm工艺制程，即使中芯国际目前的N＋1，N＋2等等技术，虽然无限接近7nm工艺制程，确实很难达到真正的台积电的7nm工艺。听着好像是长他人志气，灭自己威风，可事实上我们也知道的是，目前我国光刻机技术，还完全达不到台积电的代工的特点，也达不到ASML光刻机的技术。

可是，我国并非没有能力制造光刻机，目前我国的光刻机是上海微电子的90nm工艺光刻机，这项技术确实很难达到我们对于7nm EUV，甚至于5nm工艺制程的需求。

确实最近有好消息，上海微电子日前宣布：在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。如果多轮曝光，还可以达到14nm，我们确实能够看到上海微电子的进步，但是和ASML即将推出的5nm工艺制程相比确实还存在一定的距离。

我们确实没有ASML技术厉害，可是我们得知道的是，我们技术是受限制的——

1.荷兰ASML的技术是80000个零部件，这些零部件是来自于世界各地，有美国，德国等等国家的先进技术。

2.因为瓦森纳协定的影响，我国的技术确实受到西方技术的限制，在发展方面确实很难突破限制，这种技术的限制确实是目前我们在光刻机中发展受限的原因之一。

其实，我国光刻机想发展确实需要打破西方束缚，这种束缚除了技术的限制，更主要的还能够弯道超车，能够真正走出一条我国自己的光刻机之路，这才是我们需要解决和努力         

                                                                                         -----转自LeoGo科技

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